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石英玻璃材料簡介

作者(zhe):管理員 日期:2021-03-04 人氣:3320

石英玻璃的形成是由于其熔體高溫黏度很高引起的結果。用于制作半導體、電光源器、半導通信裝置、激光器、光學儀器、實驗室儀器、電學設備、醫療設備和耐高溫耐腐蝕的化學儀器、化工、電子、冶金、建材以及國防等工業,應用十分廣泛。高純石英玻璃可制光導纖維。

隨著(zhu)半(ban)導體(ti)技術的(de)(de)(de)發展,石英玻璃被(bei)廣泛的(de)(de)(de)用(yong)于(yu)半(ban)導體(ti)生產(chan)的(de)(de)(de)各(ge)項工(gong)序中。比如,直拉(la)法把多(duo)晶轉化成單晶硅;清洗(xi)時用(yong)的(de)(de)(de)清洗(xi)槽(cao);擴散時用(yong)的(de)(de)(de)擴散管、刻槽(cao)舟;離子注入(ru)時用(yong)的(de)(de)(de)鐘罩等(deng)等(deng)。

       石英玻璃是一種只(zhi)含二(er)氧化(hua)硅單(dan)一成(cheng)份(fen)的特種玻璃。由于種類、工藝(yi)、原料(liao) 的不同,國(guo)外(wai)(wai)常(chang)常(chang)叫做硅(gui)酸玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、熔融石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)、熔凝石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)、合成(cheng)熔融石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying),以及(ji)沒有明(ming)(ming)確概念的透(tou)明(ming)(ming)、半透(tou)明(ming)(ming)、不透(tou)明(ming)(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)等(deng)。我國(guo)統稱石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li),多按工藝(yi)方法、用(yong)途及(ji)外(wai)(wai)觀來(lai)分(fen)類(lei),如電熔透(tou)明(ming)(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、連熔石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、氣煉(lian)透(tou)明(ming)(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、合成(cheng)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、不透(tou)明(ming)(ming)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、光學(xue)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、半導體用(yong)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)、電光源用(yong)石(shi)(shi)(shi)(shi)英(ying)玻(bo)(bo)(bo)(bo)璃(li)(li)(li)等(deng)。人們習慣于用(yong)石英這(zhe)樣(yang)一個簡單(dan)的詞匯來命名這(zhe)種材(cai)料,這(zhe)是絕對不(bu)妥的,因為(wei)石英是二氧化(hua)硅(gui)(gui)結晶態(tai)的一種通稱,它與玻璃態(tai)二氧化(hua)硅(gui)(gui)在理化(hua)性質上(shang)是有區別的。

      石英玻璃(li)具(ju)有極低的熱膨脹系數,高的耐溫性(xing),極好的化(hua)學(xue)穩定性(xing),優良(liang)的電絕緣性(xing),低而(er)穩定的超聲延遲性(xing)能(neng),*佳的透(tou)紫(zi)外光(guang)譜(pu)性(xing)能(neng)以(yi)及透(tou)可(ke)見(jian)光(guang)及近紅(hong)外光(guang)譜(pu)性(xing)能(neng),并有著高于普(pu)通玻璃(li)的機械性(xing)能(neng)。因(yin)此它是近代尖端技(ji)術(shu)中(zhong)空間(jian)技(ji)術(shu)、原子能(neng)工業、國(guo)防裝備、自動化(hua)系統,以(yi)及半導體、冶(ye)金、化(hua)工、電光(guang)源、通訊、輕工、建材(cai)等工業中(zhong)不可(ke)缺少的優良(liang)材(cai)料之(zhi)一。

石英(ying)玻璃(li)是用天然結(jie)晶石英(ying)(水(shui)晶或(huo)純(chun)的(de)(de)(de)(de)硅(gui)石),或(huo)合成硅(gui)烷經高溫熔制(zhi)(zhi)而成。熔融(rong)后的(de)(de)(de)(de)產品具(ju)有極好的(de)(de)(de)(de)加(jia)工(gong)性(xing)能(neng),在其高的(de)(de)(de)(de)粘度范圍內,可以(yi)將管和(he)棒進行(xing)有如普通玻璃(li)細工(gong)一樣的(de)(de)(de)(de)熱加(jia)工(gong),還可以(yi)用金剛石或(huo)碳化(hua)硅(gui)制(zhi)(zhi)成的(de)(de)(de)(de)磨具(ju)進行(xing)高速機械加(jia)工(gong),從(cong)而制(zhi)(zhi)成各種復雜形狀(zhuang)的(de)(de)(de)(de)儀器和(he)特(te)種制(zhi)(zhi)品。石英(ying)玻璃(li)的(de)(de)(de)(de)性(xing)能(neng)主要取決(jue)于它的(de)(de)(de)(de)純(chun)度,其次(ci)是工(gong)藝過程(cheng)或(huo)熱工(gong)制(zhi)(zhi)度。微量(liang)雜質的(de)(de)(de)(de)存(cun)在將給石英(ying)玻璃(li)的(de)(de)(de)(de)使用性(xing)能(neng)帶(dai)來重(zhong)大(da)的(de)(de)(de)(de)影(ying)響;同(tong)時(shi)由(you)于工(gong)藝過程(cheng)或(huo)熱工(gong)制(zhi)(zhi)度的(de)(de)(de)(de)稍(shao)有疏忽(hu),將給外觀(guan)質量(liang)帶(dai)來多(duo)種多(duo)樣的(de)(de)(de)(de)缺陷,產生大(da)量(liang)的(de)(de)(de)(de)廢次(ci)產品。

純(chun)(chun)度(du)是石英玻璃的重要指標,對理(li)化性能和使用性能影(ying)響甚大,如失透(tou)性、高(gao)溫強度(du)、軟化點、光(guang)的傳導、熱穩定性、化學穩定性、耐輻(fu)射性、熒光(guang)特性等(deng);此外,用于半(ban)導體工(gong)業(ye)的石英玻璃,對純(chun)(chun)度(du)的要求更為苛刻,微量的雜(za)質將給半(ban)導體材料的電性能和壽命以及集成度(du)帶來嚴重的影(ying)響。由(you)于半(ban)導體材料的純(chun)(chun)度(du)要求控制在ppb數量級(ji)以下,因(yin)此石英玻璃則應控制在PPm數(shu)量級以(yi)適應半導體工業的(de)需要。B的分凝系數(shu)近于1,*難除掉,是(shi)*有害(hai)的雜質之一,CuFeTi等(deng)影響半導體的少子壽命(ming),KNaLi是單晶(jing)材(cai)料產生(sheng)微缺陷的有害(hai)雜(za)質(zhi)。

失(shi)透(tou)(又叫析晶性)是石(shi)英玻璃的一個(ge)固(gu)有缺陷,從熱力(li)學觀點(dian)看(kan),石(shi)英玻璃 的內(nei)能高(gao)于結晶態方石英,屬(shu)熱力學上(shang)不穩定的亞穩態,當溫度高(gao)于1000℃時,SiO2 分(fen)子(zi)振動加速(su),經一段較長時間的(de)重新排列、定向便形成(cheng)(cheng)結(jie)晶(jing)。失透性是以晶(jing)核成(cheng)(cheng)長速(su)度(du)來表示的(de),不透明石英玻璃在(zai)1520℃、透明石英玻璃在1620℃析(xi)晶速度分別達到*大(da)值。 析晶主要出現在表面,其次(ci)是(shi)(shi)內部(bu)缺陷處(chu),原因是(shi)(shi)這些地方容(rong)易沾污,引起雜質離(li)子的局部(bu)集聚,特別(bie)是(shi)(shi)堿離(li)子(如KNaLiCaMg等)進入網絡(luo)后引起粘度降低,促使失透加(jia)速。 由于石英玻璃的熱(re)膨(peng)脹系數和(he)比重同析(xi)晶產物β-方石英相近,所以在高溫下(xia)連續使用(yong)時,盡管析(xi)晶區不斷擴大,但體積(ji)變化并不明顯(xian),仍可(ke)滿意地繼續使用(yong),此時尚可(ke)減(jian)輕(qing)玻(bo)璃(li)的(de)塑性變形(xing),使耐火度提高。當析(xi)晶產(chan)物冷(leng)卻到800℃時,則出現細小的龜裂網絡(luo)。繼續(xu)冷卻到200-275℃時,則出現方石(shi)英從高(gao)溫型到低溫型(即β-方(fang)石(shi)英(ying)→a-方石英)的(de)(de)結構變(bian)化,并伴隨著發生(sheng)體積聚變(bian),如(ru)果(guo)析(xi)晶層很深,則石英玻璃亦隨之破裂。由于析(xi)晶常常出現在有雜質的(de)(de)地方,所以高溫使用(yong)前的(de)(de)表(biao)面狀(zhuang)態及周圍耐火材(cai)料(liao)、氣氛十分重要(yao)。

石英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)屬酸(suan)(suan)性材(cai)料,除氫氟(fu)酸(suan)(suan)和熱磷酸(suan)(suan)外,對其它任(ren)何酸(suan)(suan)均表(biao)現為(wei)惰性,是(shi)*好的(de)耐酸(suan)(suan)材(cai)料。在(zai)常(chang)溫下堿和鹽(yan)對石英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)的(de)腐蝕程度也(ye)是(shi)極微的(de),因此不排除在(zai)這(zhe)些試(shi)劑中使用(yong)石英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)。透明石英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)比不透明石英(ying)(ying)玻(bo)(bo)璃(li)具(ju)有更好的(de)化學穩定性,這(zhe)是(shi)因為(wei)后者由(you)于(yu)氣泡的(de)存在(zai)暴(bao)露在(zai)腐蝕液(ye)中的(de)表(biao)面積增加所(suo)致(zhi)。

石(shi)英玻璃的(de)結構(gou)十分松弛,甚至在高溫下還允許某些氣體的(de)離(li)子(zi)通過網絡進行(xing)擴散,其中以(yi)鈉(na)離(li)子(zi)的(de)擴散為*快。石(shi)英玻璃的(de)這一性(xing)能對于(yu)使(shi)用(yong)者尤為重(zhong)要,例如,半導(dao)體工業用(yong)石(shi)英玻璃作為高溫容器或擴散管時,由(you)于(yu)半導(dao)體材料要求很高的(de)純度,所以(yi)要求與(yu)石(shi)英玻璃接觸的(de)作為爐(lu)襯的(de)耐(nai)火材料必須預(yu)先經過高溫和(he)清潔處(chu)理,除掉鉀(jia)、鈉(na)等堿(jian)性(xing)雜(za)質,然(ran)后才能放入石(shi)英玻璃內使(shi)用(yong)。

石英玻璃的光(guang)學性能有其獨到之處,它(ta)既可(ke)(ke)以透過遠紫(zi)外(wai)(wai)光(guang)譜,是所有透紫(zi)外(wai)(wai)材料(liao)*優者,又(you)可(ke)(ke)透過可(ke)(ke)見光(guang)和(he)近紅外(wai)(wai)光(guang)譜。用戶可(ke)(ke)以根據需(xu)要,從185-3500mμ波段范(fan)圍內任(ren)意選(xuan)擇所需(xu)品種。由于石英玻(bo)璃耐高溫(wen),熱膨脹(zhang)系數極小,化(hua)學(xue)熱穩定(ding)性(xing)好,氣泡、條(tiao)紋、均勻性(xing)、雙折(zhe)射(she)又可與一般光(guang)學(xue)玻(bo)璃媲(pi)美,所以它(ta)是在各種惡(e)劣場合下工(gong)作具有高穩定(ding)度(du)光(guang)學(xue)系統的(de)必不(bu)可少的(de)光(guang)學(xue)材料。石英玻(bo)璃的(de)結構,雜質含量,OH基因及NOCO等含量是影響光(guang)譜(pu)透過率的主要(yao)因素,氧(yang)原子結合不良在0.24μ處則有吸收峰,含有OH基團的(de)石英玻(bo)璃,在2.7μ處(chu)由(you)于(yu)分子(zi)振動將產生明顯的吸收峰,紫外透(tou)過(guo)率低(di)主(zhu)要是由(you)于(yu)金屬雜質多(duo)造成原子(zi)吸收光譜所致。 石英玻璃的光譜特(te)性(xing)曲線(xian) 電熔石英(ying)玻璃(li)是很好的透紅外材料,但由(you)于(yu)雜質的存在,紫外透過率低。氫氧焰熔制水晶所獲得的石英(ying)玻璃(li),由(you)于(yu)氧結(jie)構(gou)缺陷,在0.24μ處有吸收(shou)峰(feng),同時含有OH基團(tuan),所以紅外透過極低。用(yong)合成原料(liao)氣(qi)煉的高(gao)純光學石英玻璃是*好(hao)的透紫外材料(liao),但在2.7μ處有嚴(yan)重的OH吸收峰。只有用合成原料通過電(dian)熔(rong)或無氫火焰(yan)熔(rong)融(rong)而(er)成的光學石英玻璃,才能很好地透(tou)過從遠(yuan)紫外到近紅(hong)外的連續光譜。

石英(ying)玻璃(li)的熱膨脹系數小,為5.5×10-7/℃,只有普通玻璃的(de)1/121/20.標準(zhun)規定將試(shi)樣(yang)灼燒(shao)到(dao)1200℃后急速(su)投到冷(leng)水中(zhong),反復(fu)三次(ci)以上(shang)不(bu)允許(xu)炸裂。石英(ying)玻璃加入適量鈦(tai)元素后還可做成零膨脹(zhang)系數的材料,在(zai)激光(guang)技術(shu)、天文和尖端技術(shu)中(zhong)。

注意(yi)事項:

        1.
石英玻璃制品(pin)是貴重的(de)材料,使用時必(bi)須輕(qing)拿輕(qing)放(fang),十分(fen)小心;

2.各種(zhong)石(shi)英玻璃(li)都有一個*高使用(yong)溫度(du),使用(yong)時不應超過此溫度(du),否則會析(xi)晶或(huo)軟化變形;

3.需高溫使(shi)用(yong)(yong)的石英玻(bo)璃,使(shi)用(yong)(yong)前必須(xu)擦拭干凈。可以用(yong)(yong)10%的氫(qing)氟酸或(huo)洗(xi)液浸泡,然(ran)后用(yong)高(gao)純(chun)水清洗(xi)或(huo)酒精處理。操作時應戴細線(xian)手套(tao),不(bu)允(yun)許用(yong)手直接觸及石(shi)英玻(bo)璃;

4.高溫下允許連(lian)續使(shi)用石(shi)英(ying)玻璃制品,這對(dui)延長石(shi)英(ying)玻璃的壽(shou)命(ming)和提高耐溫性能是(shi)有好處的。反之,高溫下間歇使(shi)用石(shi)英(ying)玻璃制品,其(qi)使(shi)用次數是(shi)有限(xian)的;

5.石英玻(bo)璃材質雖具有(you)極高的(de)熱穩定性(xing),可(ke)以經受(shou)劇烈的(de)溫差(cha)驟(zou)變。但實際使用時,由于(yu)殘余(yu)應(ying)變和(he)產(chan)品形狀不同,熱穩定性(xing)有(you)一定的(de)差(cha)別,使用時應(ying)加以注(zhu)意;

6.石英玻璃系酸性(xing)材料,高溫(wen)使用時嚴格避免同堿性(xing)物質(zhi)(如水玻璃、石棉、鉀鈉的(de)化合物等)接觸,否(fou)則將大(da)大(da)降低(di)其抗結晶性(xing)能。 

主要性能

不(bu)同的(de)性(xing)能

參數(shu)

JGS1

JGS2

JGS3

尺寸

<Φ200mm

<Φ300mm

<Φ200mm

透過范圍
(
透過比)

0.17~2.10um
(Tavg>90%)

0.26~2.10um
(Tavg>85%)

0.25~3.50um
(Tavg>85%)

調制解調器容(rong)量(liang)

1200 ppm

150 ppm

5 ppm

熒(ying)光(guang)度(du) (ex 254nm)

Virtually Free

Strong v-b

Strong V-B

雜質容(rong)量

5 ppm

20-40 ppm

40-50 ppm

應(ying)力雙折(zhe)射(she)

2-4 nm/cm

4-6 nm/cm

4-10 nm/cm

熔融法

Synthetic CVD

Oxy-hydrogen melting

Electrical melting

應(ying)用

Laser substrate: Window, lens, prism, mirror...

Semiconductor and high temperature window

IR substrate

相同的性(xing)能

密度

2.20g/cm3

阿貝系數

67.6

折射率(lv) (nd) 588nm

1.4586

波長 (um)

折射率(lv) (n)

波長 (um)

折(zhe)射率 (n)

0.200

1.55051

1.000

1.45042

0.220

1.52845

1.064

1.44962

0.250

1.50745

1.100

1.44920

0.300

1.48779

1.200

1.44805

0.320

1.48274

1.300

1.44692

0.360

1.47529

1.500

1.4462

0.400

1.47012

1.600

1.44342

0.450

1.46557

1.700

1.44217

0.488

1.46302

1.800

1.44087

0.500

1.46233

1.900

1.43951

0.550

1.46008

2.000

1.43809

0.588

1.45860

2.200

1.43501

0.600

1.45804

2.400

1.43163

0.633

1.45702

2.600

1.42789

0.650

1.45653

2.800

1.42377

0.700

1.45529

3.000

1.41925

0.750

1.45424

3.200

1.41427

0.800

1.45332

3.370

1.40990

0.850

1.45250

3.507

1.40566

0.900

1.45175

3.707

1.39936

 


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標簽: 石英玻璃