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北京衡工儀器有限公司光學平臺的撓度及Z大相對位移解釋

作者: 日(ri)期:2019-07-25 人氣:4733

北京(jing)衡(heng)工儀器有限公司光學平臺的撓度及Z大相對位(wei)移解釋

   1.光(guang)學(xue)平臺的撓(nao)度

  撓(nao)度(du)是(shi)指結構(gou)構(gou)件的(de)(de)軸(zhou)線(xian)(xian)(xian)或(huo)中面(mian)由于彎曲引起垂直于軸(zhou)線(xian)(xian)(xian)或(huo)中面(mian)方向的(de)(de)線(xian)(xian)(xian)位(wei)移(yi)(yi)。對于細(xi)(xi)長物(wu)體(ti)(ti)或(huo)薄(bo)物(wu)體(ti)(ti),撓(nao)度(du)是(shi)在(zai)受力后彎曲變(bian)(bian)形程度(du)的(de)(de)度(du)量(liang)(liang)。細(xi)(xi)長物(wu)體(ti)(ti)(如梁或(huo)柱)的(de)(de)撓(nao)度(du)是(shi)指在(zai)變(bian)(bian)形時其(qi)軸(zhou)線(xian)(xian)(xian)上各點(dian)(dian)(dian)在(zai)該點(dian)(dian)(dian)處軸(zhou)線(xian)(xian)(xian)法(fa)平面(mian)內的(de)(de)位(wei)移(yi)(yi)量(liang)(liang)。薄(bo)板或(huo)薄(bo)殼的(de)(de)撓(nao)度(du)是(shi)指中面(mian)上各點(dian)(dian)(dian)在(zai)該點(dian)(dian)(dian)處中面(mian)法(fa)線(xian)(xian)(xian)上的(de)(de)位(wei)移(yi)(yi)量(liang)(liang)。通俗地講,撓(nao)度(du)就是(shi)構(gou)件的(de)(de)豎向變(bian)(bian)形。

  撓度(du)系(xi)數(shu)同剛性(xing)系(xi)數(shu)、抗拉強度(du)、楊氏彈(dan)性(xing)模量等類似,是(shi)標稱材料(liao)特性(xing)的(de)一(yi)個常(chang)數(shu),對于光(guang)學(xue)平(ping)臺(tai)而(er)言,其它因素(su)相(xiang)同只有厚(hou)(hou)度(du)不同的(de)情況(kuang)下,鋼板越厚(hou)(hou),撓度(du)越小。光(guang)學(xue)平(ping)臺(tai)臺(tai)面(mian)的(de)三層夾心結構(gou),上(shang)臺(tai)面(mian)厚(hou)(hou)度(du)4~6mm,采用(yong)鐵(tie)磁不銹鋼材質時,zui大動撓度(du)系(xi)數(shu)一(yi)般小于2~4×10-3。

  2.光學平臺的zui大相(xiang)對(dui)位移(yi)

  光(guang)學平(ping)臺中(zhong)提到的(de)(de)(de)(de)(de)zui大(da)相(xiang)(xiang)對位移(yi)有別于精密(mi)位移(yi)臺中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)關概(gai)念(nian),通常(chang)光(guang)學平(ping)臺的(de)(de)(de)(de)(de)zui大(da)相(xiang)(xiang)對位移(yi)指(zhi)標(biao),是(shi)指(zhi)在(zai)特(te)定的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)試條件和(he)(he)環境(jing)中(zhong),臺面(mian)本身(shen)的(de)(de)(de)(de)(de)變(bian)形(xing)量。比如在(zai)一個隔離了外(wai)界(jie)振動的(de)(de)(de)(de)(de)環境(jing)中(zhong),放(fang)置負載和(he)(he)空載情(qing)況下,通過平(ping)面(mian)度檢測(ce)儀(yi)測(ce)量臺面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)變(bian)形(xing)。臺面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)尺寸(cun),通常(chang)取300mm×300mm,負載安(an)置在(zai)此面(mian)積(ji)的(de)(de)(de)(de)(de)中(zhong)心位置,負載也(ye)有一定的(de)(de)(de)(de)(de)要求。

  光(guang)學(xue)平臺(tai)的(de)(de)zui大相(xiang)對(dui)位移值,主要同平臺(tai)的(de)(de)結構(gou)和材(cai)(cai)料剛(gang)性相(xiang)關(guan),在同樣測試條(tiao)件(jian),且光(guang)學(xue)平臺(tai)的(de)(de)結構(gou)和材(cai)(cai)料相(xiang)近的(de)(de)情況下,zui大相(xiang)對(dui)位移的(de)(de)值相(xiang)差(cha)不大。


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